화학 기상 증착(CVD) chemical vapor deposition
방법 · 공정·제작
기체 전구체의 화학반응을 이용해 기판 위에 박막이나 나노소재를 성장시키는 공정이다.
하위 키워드
이 키워드를 포함하는 더 구체적인 키워드. 위 논문 수·교수·연도별 그래프는 이들을 합친 값이다.
개시제 기반 화학기상증착(iCVD) 5 유기금속 화학기상증착(MOCVD) 3
연도별 학부 논문
국가 R&D 과제 동향 (NTIS, 억 원)
2015–2024 과제 레코드 730건 · 10년 1,842억 · 2015–19 대비 2020–24 +44% · 대학 수행 26.6% · 서울대(본교) 0.70%. 매칭: 영문 키워드 'chemical vapor deposition', 국문 '화학기상증착', 'CVD'. 기관운영비·인력양성·출연연 주요사업비 등 과제 아닌 레코드는 뺐다.
매칭 과제의 NTIS 표준분류(1순위, 연구비 비중): 전기/전자 > 반도체 소자·회로 17% · 전기/전자 > 디스플레이 14% · 재료 > 세라믹재료 14% · 전기/전자 > 반도체장비 12%
최근 주요 과제 (2022–2024, 연차 정부연구비 순)
| 연도 | 과제 | 수행기관 | 부처 | 억 |
|---|---|---|---|---|
| 2024 | 디스플레이 TFT 게이트 절연막 형성을 위한 화학 기상 증착 챔버 세정 공정용 GWP 150 이하의 대체가스 및 공정기술 개발 | (주)에프알디 | 산업통상자원부 | 21.5 |
| 2023 | 8.5세대 부하물 350Kg 이상 작동거리 7m 이상의 OLED 마스크 및 유리기판 이송용 진공로봇 개발 | (주)티로보틱스 | 산업통상자원부 | 20.8 |
| 2023 | 화합물반도체 에피센터 구축 | (재)한국나노기술원 | 과학기술정보통신부 | 20.0 |
| 2023 | IT 디스플레이의 LTPO용 절연막 증착을 위한 고밀도 플라즈마 CVD 증착 시스템 및 공정기술 개발 | (주)원익아이피에스 | 산업통상자원부 | 19.7 |
| 2024 | 고균일 (파장 균일도 ≤ ±2㎚) LED 특성을 위한 단일 클러스터형 6인치급 질화물 고온 성장용 MOCVD 장비 기술 개발 | 한국세라믹기술원 | 산업통상자원부 | 18.7 |
| 2023 | 8세대 고밀도 플라즈마 CVD용 상하부 모듈 기술 개발 | (주)티티에스 | 산업통상자원부 | 15.3 |
| 2022 | 시스템 반도체용 Low k 스마트 PECVD 증착장비 및 공정 개발 | (주)테스 | 산업통상자원부 | 13.3 |
| 2023 | 2D 반데르발스 물질 기반 다채널 GAA-FET 향 소재/공정/소자 기술 개발 | 성균관대학 | 과학기술정보통신부 | 10.1 |
교수
| 교수 | 연구분야 | 논문 | 2022년 이후 |
|---|---|---|---|
| 최장욱 | 무기 및 전기전자 소재 | 6 | 0 |
| 황석연 | 생물 및 환경 | 3 | 0 |
| 김지현 | 공정시스템 | 3 | 0 |
| 김대형 | 무기 및 전기전자 소재 | 2 | 0 |
| 남재욱 | 고분자 및 유기 소재 | 1 | 0 |
| 김병수 | 생물 및 환경 | 1 | 0 |
| 정유성 | 공정시스템 | 1 | 0 |
| 박정원 | 무기 및 전기전자 소재 | 1 | 0 |
| 현택환 | 무기 및 전기전자 소재 | 1 | 0 |
| 김도희 | 공정시스템 | 1 | 1 |
연결되는 NTIS 분류
재료화학(구 나노화학) 1 화학공정 1
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