금속 보조 화학 식각(MacEtch) metal-assisted chemical etching
키워드 · 정보·전자소자
3학부 논문
1교수
1억 국가 R&D(2015–24)
소규모증가율
0.00%서울대 비중
금속 촉매가 닿은 부분만 선택적으로 녹여 반도체에 고종횡비 나노구조를 만드는 습식 식각법이다.
연도별 학부 논문
국가 R&D 과제 동향 (NTIS, 억 원)
2015–2024 과제 레코드 6건 · 10년 1억 · 2015–19 대비 2020–24 소규모 · 대학 수행 55.1% · 서울대(본교) 0.00%. 매칭: 영문 키워드 'metal assisted chemical etching', 국문 '금속보조화학식각', '금속촉매식각'. 기관운영비·인력양성·출연연 주요사업비 등 과제 아닌 레코드는 뺐다.
매칭 과제의 NTIS 표준분류(1순위, 연구비 비중): 전기/전자 > 반도체 소자·회로 46% · 물리학 > 응집물질물리 31% · 화학 > 전기화학 23%
최근 주요 과제 (2022–2024, 연차 정부연구비 순)
| 연도 | 과제 | 수행기관 | 부처 | 억 |
|---|---|---|---|---|
| 2023 | 저조도 광 검출 소자를 위한 InGaAs/InP 이종접합 나노와이어 어레이 공정 개발 | 한국과학기술연구원 | 교육부 | 0.3 |
| 2022 | 나노/마이크로 단위로 규격화된 다차원 실리콘 소재 공정 및 메타물질 응용 연구 | 동국대학 | 교육부 | 0.2 |
교수
| 교수 | 연구분야 | 논문 | 2022년 이후 |
|---|---|---|---|
| 김지현 | 공정시스템 | 3 | 3 |
함께 나오는 키워드
베타 산화갈륨(β-Ga2O3) 알파 산화갈륨(α-Ga2O3) 할라이드 기상 에피택시(HVPE) 오믹 접촉 증가형 트랜지스터(E-mode) 금속-반도체 전계효과 트랜지스터(MESFET)
연결되는 NTIS 분류
없음
논문 (최신순)
| 연도 | 논문 | 학부 저자 | 피인용 |
|---|---|---|---|
| 2026 | Forward Metal-Assisted Chemical Etching for Self-Aligned Gate-Recess Enhancement-Mode β-Ga2O3 Metal−Semiconductor Field-Effect Transistors ACS Materials Letters | 김지현 | 0 |
| 2025 | Achieving Face-Selective Ohmic Contact to β-Ga 2 O 3 via Anisotropic Trench Structure ACS Applied Electronic Materials | 김지현 | 2 |
| 2023 | Photo-enhanced metal-assisted chemical etching of α-gallium oxide grown by halide vapor-phase epitaxy on a sapphire substrate and its applications Materials Advances | 김지현 | 5 |
인접 그래프
노드 hover = 이웃 강조 · 1회 클릭 = 고정 · 고정된 노드 다시 클릭 = 페이지 이동
이 문서와 연결된 페이지
교수 1
논문 3
Forward Metal-Assisted Chemical Etching for Self-Aligned Gate-Recess E · Photo-enhanced metal-assisted chemical etching of α-gallium oxide grow · Achieving Face-Selective Ohmic Contact to β-Ga 2 O 3 via Anisotropic T