Auto-Masked Surface Texturing of Kerf-Loss Free Silicon Wafers Using Hexafluoroisopropanol in a Capacitively Coupled Plasma Etching System

저자

Suhyun Kim, Jin Su Park, Jun‐Hyun Kim, Chang‐Koo Kim, 김지현 (Jihyun Kim)

연구주제

Plasma Diagnostics and Applications

NTIS 과학기술표준분류

가장 가까운 분류(전기/전자 > 반도체장비 > 반도체장비용 핵심부품/제조장비)가 화학·화공 범위 밖이다. 배정 근거: AI 키워드가 잡은 NTIS 과제의 분류.

AI 연구 키워드·방법

hexafluoroisopropanol 플라즈마 식각 silicon solar cell silicon wafer texturing

capacitively coupled plasma etching

키워드 (OpenAlex)

hexafluoroisopropanol silicon surface texturing plasma etching

초록

이 논문을 지원한 국가R&D 과제 (NTIS 성과)

NTIS 성과DB(2020–24)에서 DOI 매칭 없음