Effects of process variables on aqueous-based AlOx insulators for high-performance solution-processed oxide thin-film transistors

저자

Jae-Eun Huh, Jintaek Park, Jun‐Hee Lee, Sung‐Eun Lee, Jinwon Lee, Keon‐Hee Lim, 김연상 (Youn Sang Kim)

연구주제

Thin-Film Transistor Technologies · Semiconductor materials and devices · Nanomaterials and Printing Technologies

NTIS 과학기술표준분류

가장 가까운 분류(전기/전자 > 디스플레이 > 디스플레이 소재/부품)가 화학·화공 범위 밖이다. 배정 근거: AI 키워드가 잡은 NTIS 과제의 분류.

AI 연구 키워드·방법

산화알루미늄 게이트 절연막 aqueous precursor 산화물 박막트랜지스터

키워드 (OpenAlex)

process parameters spin coating humidity leakage current breakdown voltage field-effect mobility on/off current ratio low-temperature processing

초록

이 논문을 지원한 국가R&D 과제 (NTIS 성과)

NTIS 성과DB(2020–24)에서 DOI 매칭 없음