SNU CBE

포토리소그래피 photolithography

방법 · 공정·제작

4학부 논문
5교수
239억 국가 R&D(2015–24)
신규증가율
0.19%서울대 비중

빛과 감광막·마스크를 이용해 기판 위에 미세 패턴을 형성하는 반도체·소자 제작 공정이다.

연도별 학부 논문

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국가 R&D 과제 동향 (NTIS, 억 원)

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2015–2024 과제 레코드 98건 · 10년 239억 · 2015–19 대비 2020–24 신규 · 대학 수행 47.4% · 서울대(본교) 0.19%. 매칭: 영문 키워드 'photolithography', 국문 '포토리소그래피', '광리소그래피'. 기관운영비·인력양성·출연연 주요사업비 등 과제 아닌 레코드는 뺐다.

매칭 과제의 NTIS 표준분류(1순위, 연구비 비중): 전기/전자 > 디스플레이 33% · 재료 > 고분자재료 29% · 화공 > 나노 화학공정기술 11% · 기계 > 나노/마이크로기계시스템 6%

최근 주요 과제 (2022–2024, 연차 정부연구비 순)

연도과제수행기관부처억
20244,000ppi 이상의 마이크로 OLED 패널 제조를 위한 포토리소그래피 및 증착 공정 최소화 기술 개발(주)탑엔지니어링산업통상자원부13.8
2022리소그래피(Lithography) 공정에 의한 OLED 화소 형성 기술 개발인하대학산업통상자원부10.0
2024초실감 자발광 양자점 디스플레이용 가교강화형 소재 및 크로스톡프리 화소 공정 기술 개발서강대학과학기술정보통신부7.5
2024고해상도 60GB/scan급 대용량 데이터실시간 패턴생성 및 왜곡오차 보상 시스템 개발(주)에스디에이산업통상자원부6.1
2023고내구성 유기발광체 네트워크 소재 기반 초고해상도 OLED 마이크로디스플레이 개발한양대학과학기술정보통신부5.8
2024광변환효율 30% 이상의 친환경 양자점 색변환 박막소재 및 확장현실용 화소형성 공정 기술 개발한인정밀화학(주)산업통상자원부5.0
2023양자점 기반 광발광 및 전계발광 디스플레이 응용을 위한 패터닝 공정 개발한국과학기술원과학기술정보통신부3.5
2023리간드 가교 가능한 패터닝 공정용 양자점 잉크소재 개발서강대학과학기술정보통신부3.0

교수

교수연구분야논문2022년 이후
오준학무기 및 전기전자 소재 · 고분자 및 유기 소재10
김대형무기 및 전기전자 소재10
이원보공정시스템 · 고분자 및 유기 소재10
김소연고분자 및 유기 소재10
김정욱고분자 및 유기 소재 · 생물 및 환경11

연결되는 NTIS 분류

고분자 공정기술 1 나노 화학공정기술 1

논문 (최신순)

연도논문학부 저자피인용
2022Nondestructive Photopatterning of Heavy‐Metal‐Free Quantum Dots 나노 화학공정기술 › 나노복합재 제조기술
Advanced Materials
김정욱88
2018Fabrication of gold nanowires in micropatterns using block copolymers 고분자 공정기술 › 고분자 박막/코팅 제조기술
RSC Advances
김소연12
2017High‐Resolution Spin‐on‐Patterning of Perovskite Thin Films for a Multiplexed Image Sensor Array
Advanced Materials
김대형, 이원보204
2017Chemically Robust Ambipolar Organic Transistor Array Directly Patterned by Photolithography
Advanced Materials
오준학87

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논문 4

Nondestructive Photopatterning of Heavy‐Metal‐Free Quantum Dots · Fabrication of gold nanowires in micropatterns using block copolymers · Chemically Robust Ambipolar Organic Transistor Array Directly Patterne · High‐Resolution Spin‐on‐Patterning of Perovskite Thin Films for a Mult