식각 종말점 검출 endpoint detection
키워드 · 공정·유체·시스템
3학부 논문
1교수
283억 국가 R&D(2015–24)
신규증가율
0.00%서울대 비중
플라즈마 식각 중 광방출 신호를 분석해 식각 완료 시점을 판정하는 반도체 공정 모니터링 기술이다.
연도별 학부 논문
국가 R&D 과제 동향 (NTIS, 억 원)
2015–2024 과제 레코드 73건 · 10년 283억 · 2015–19 대비 2020–24 신규 · 대학 수행 23.5% · 서울대(본교) 0.00%. 매칭: 영문 키워드 'endpoint detection', 국문 '종말점검출', '식각종점', '플라즈마식각'. 기관운영비·인력양성·출연연 주요사업비 등 과제 아닌 레코드는 뺐다.
매칭 과제의 NTIS 표준분류(1순위, 연구비 비중): 전기/전자 > 반도체장비 27% · 재료 > 열/표면처리 18% · 전기/전자 > 디스플레이 15% · 기계 > 정밀생산기계 10%
최근 주요 과제 (2022–2024, 연차 정부연구비 순)
| 연도 | 과제 | 수행기관 | 부처 | 억 |
|---|---|---|---|---|
| 2024 | OLED 디스플레이용 산화물 TFT 절연막 패턴 형성을 위한 150이하의 저온난화지수를 지니는 F 기반 PFC 대체가스 개발 | 한국전자기술연구원 | 산업통상자원부 | 24.8 |
| 2023 | 대기 플라즈마 용사 코팅용 산화이트륨 기반 내플라즈마 원료소재 제조 기술 개발 | (주)세원하드페이싱 | 산업통상자원부 | 11.7 |
| 2023 | 서스펜션 플라즈마 용사용 산화이트륨 및 코팅기술개발 | (주)그린리소스 | 산업통상자원부 | 11.4 |
| 2023 | 5nm이하 반도체 식각공정 Gas Injector용 고밀도 산화이트륨계 소재 제조 기술 개발 | (주)미코 | 산업통상자원부 | 11.4 |
| 2024 | 저 GWP HFC 계열 가스를 이용한 플라즈마 식각 공정기술 개발 | 성균관대학 | 산업통상자원부 | 11.1 |
| 2024 | 반도체 식각공정용 GWP 150이하 carbon-rich PFC 대체가스 공정기술개발 | 성균관대학 | 산업통상자원부 | 11.1 |
| 2022 | 고속 고품질 Maskless 플라즈마 다이싱 가공장비 개발 | (주)예스티 | 산업통상자원부 | 10.0 |
| 2023 | 플라즈마 식각공정 부품용 원형 600mm급 다결정 실리콘 잉곳을 단위공정당 4개를 동시 생산가능한 고효율 잉곳 성장시스템 개발 | (주)린텍 | 중소벤처기업부 | 3.4 |
교수
| 교수 | 연구분야 | 논문 | 2022년 이후 |
|---|---|---|---|
| 이종민 | 공정시스템 | 3 | 3 |
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없음
논문 (최신순)
| 연도 | 논문 | 학부 저자 | 피인용 |
|---|---|---|---|
| 2025 | Adaptive learning strategies for addressing chamber variations in real-time endpoint detection of semiconductor plasma etching Journal of Intelligent Manufacturing | 이종민 | 1 |
| 2024 | Plasma Etching Endpoint Detection in the Presence of Chamber Variations Through Nonlinear Manifold Learning and Density-Based Clustering IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing | 이종민 | 5 |
| 2023 | Improvement of Plasma Etching Endpoint Detection With Data-Driven Wavelength Selection and Gaussian Mixture Model IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing | 이종민 | 10 |
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