탄소 이온 주입 carbon ion implantation
키워드 · 소재·나노·화학
3학부 논문
1교수
275억 국가 R&D(2015–24)
-17%증가율
2.09%서울대 비중
금속 기판에 탄소 이온을 고온에서 주입해 웨이퍼 규모의 다층 그래핀을 합성하는 공정이다.
연도별 학부 논문
국가 R&D 과제 동향 (NTIS, 억 원)
2015–2024 과제 레코드 117건 · 10년 275억 · 2015–19 대비 2020–24 -17% · 대학 수행 9.1% · 서울대(본교) 2.09%. 매칭: 영문 키워드 'carbon ion implantation', 국문 '이온주입', '그래핀합성'. 기관운영비·인력양성·출연연 주요사업비 등 과제 아닌 레코드는 뺐다.
매칭 과제의 NTIS 표준분류(1순위, 연구비 비중): 전기/전자 > 반도체장비 33% · 전기/전자 > 디스플레이 30% · 정보/통신 > 정보통신 모듈/부품 5% · 화공 > 나노 화학공정기술 4%
최근 주요 과제 (2022–2024, 연차 정부연구비 순)
| 연도 | 과제 | 수행기관 | 부처 | 억 |
|---|---|---|---|---|
| 2022 | 반도체용 저에너지 고전류 이온주입 파일럿 장비 개발 | (주)나인벨 | 산업통상자원부 | 13.0 |
| 2023 | 공정내 불순물 농도를 실시간 분석 가능한 일체형 저전력 고성능 극저온 고진공 배기장치 개발 | 크라이오에이치앤아이 | 산업통상자원부 | 10.8 |
| 2024 | 차세대 필터용 6인치 Thin-film SAW 파운드리 기술 개발 | (주)쏘닉스 | 과학기술정보통신부 | 7.8 |
| 2024 | 웨이퍼 노치 각도 검출 시스템 | (주)에스피에스텍 | 산업통상자원부 | 2.7 |
| 2024 | 다이아몬드 기반 3세대 전력반도체 소재 개발: 저결함 다이아몬드 성장 및 이온주입 원소 도핑 | (주)메손플러스 | 과학기술정보통신부 | 2.2 |
| 2024 | 실리콘 기판 화합물 반도체 성장 접착력 향상을 위한 이온주입 시스템 개발 | (주)라드피온 | 과학기술정보통신부 | 2.2 |
| 2023 | 양성자 유도 감마선 발생 기술 기반 40 keV급 연구용 소형 이온주입 장비 개발 | (주)비엠아이 | 중소벤처기업부 | 2.0 |
| 2023 | 반도체 공정용 세라믹의 정전기 방지를 위한 표면처리 장치 시제품 개발 | (주)라드피온 | 중소벤처기업부 | 1.2 |
교수
| 교수 | 연구분야 | 논문 | 2022년 이후 |
|---|---|---|---|
| 김지현 | 공정시스템 | 3 | 0 |
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없음
논문 (최신순)
| 연도 | 논문 | 학부 저자 | 피인용 |
|---|---|---|---|
| 2020 | BEOL-compatible synthesis of multi-layer graphene by carbon ion implantation on cobalt thin films Applied Surface Science | 김지현 | 0 |
| 2018 | Study on the formation of graphene by ion implantation on Cu, Ni and CuNi alloy Applied Surface Science | 김지현 | 16 |
| 2015 | Wafer-scale synthesis of multi-layer graphene by high-temperature carbon ion implantation Applied Physics Letters | 김지현 | 72 |
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