Stable Subloop Behavior in Ferroelectric Si-Doped HfO2
2019 · ACS Applied Materials & Interfaces
저자
Kyoungjun Lee, Hyun‐Jae Lee, Tae Yoon Lee, Hong Heon Lim, Myeong Seop Song, Hyang Keun Yoo, Dong Ik Suh, Jae Gil Lee, Jae Gil Lee, Zhongwei Zhu, Alexander Yoon, Matthew R. MacDonald, Xinjian Lei, Kunwoo Park, 박정원 (Jungwon Park), Jun Hee Lee, Jun Hee Lee, Seung Chul Chae
연구주제
Ferroelectric and Negative Capacitance Devices
NTIS 과학기술표준분류
가장 가까운 분류(전기/전자 > 반도체 소자·회로 > 반도체 재료)가 화학·화공 범위 밖이다. 배정 근거: AI 키워드가 잡은 NTIS 과제의 분류.
AI 연구 키워드·방법
강유전성 하프늄 산화물 multilevel polarization state 뉴로모픽 소자
piezoresponse force microscopy
키워드 (OpenAlex)
ferroelectric HfO2 silicon doping piezoelectric force microscopy neuromorphic computing non-volatile memory
초록
이 논문을 지원한 국가R&D 과제 (NTIS 성과)
NTIS 성과DB(2020–24)에서 DOI 매칭 없음
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연구주제 1
Ferroelectric and Negative Capacitance Devices