A position-controllable external stage for critical dimension measurements via low-noise atomic force microscopy

저자

Seunghyun Moon, Jung Hwan Kim, Ju-Hwang Kim, 김연상 (Youn Sang Kim), ChaeHo Shin

연구주제

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NTIS 과학기술표준분류

가장 가까운 분류(전기/전자 > 반도체장비)가 화학·화공 범위 밖이다. 배정 근거: 지원 과제·키워드 근거가 없어 AI가 논문 제목·초록을 읽고 고른 분류.

AI 연구 키워드·방법

critical dimension measurement positioning error semiconductor metrology

원자힘 현미경(AFM)

키워드 (OpenAlex)

critical dimension measurement positioning error tip wear measurement reproducibility semiconductor metrology

초록

이 논문을 지원한 국가R&D 과제 (NTIS 성과)

NTIS 성과DB(2020–24)에서 DOI 매칭 없음