Effects of Li doping on the negative bias stress stability of solution-processed ZnO thin film transistors
2015 · RSC Advances
저자
Bokyung Kim, Si Yun Park, Jieun Ko, Young‐Jae Kim, 김연상 (Youn Sang Kim)
연구주제
Thin-Film Transistor Technologies · ZnO doping and properties · Organic Electronics and Photovoltaics
NTIS 과학기술표준분류
가장 가까운 분류(전기/전자 > 디스플레이 > 디스플레이 소재/부품)가 화학·화공 범위 밖이다. 배정 근거: AI 키워드가 잡은 NTIS 과제의 분류.
AI 연구 키워드·방법
바이어스 스트레스 안정성 리튬 도핑 산화아연 박막트랜지스터(ZnO TFT)
키워드 (OpenAlex)
lithium doping ZnO thin-film transistors negative bias stress stress stability field-effect mobility threshold voltage shift solution-processed oxide semiconductors
초록
To investigate the effect of Li dopant on the electrical characteristics under negative bias stress (NBS), we analysed ZnO and Li doped ZnO TFTs. The Li dopant enhanced the field effect mobility and sustained the variation in V on of the ZnO TFTs.
이 논문을 지원한 국가R&D 과제 (NTIS 성과)
NTIS 성과DB(2020–24)에서 DOI 매칭 없음
인접 그래프
노드 hover = 이웃 강조 · 1회 클릭 = 고정 · 고정된 노드 다시 클릭 = 페이지 이동
이 문서와 연결된 페이지
교수 1
연구주제 1
Thin-Film Transistor Technologies