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원자층 증착(ALD) atomic layer deposition

방법 · 공정·제작

4학부 논문
3교수
2,281억 국가 R&D(2015–24)
+131%증가율
3.34%서울대 비중

전구체를 번갈아 공급하는 자기제한 표면반응으로 원자층 단위의 균일한 박막을 쌓는 증착 기술이다.

연도별 학부 논문

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국가 R&D 과제 동향 (NTIS, 억 원)

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2015–2024 과제 레코드 870건 · 10년 2,281억 · 2015–19 대비 2020–24 +131% · 대학 수행 36.0% · 서울대(본교) 3.34%. 매칭: 영문 키워드 'atomic layer deposition', 국문 '원자층증착', 'ALD'. 기관운영비·인력양성·출연연 주요사업비 등 과제 아닌 레코드는 뺐다.

매칭 과제의 NTIS 표준분류(1순위, 연구비 비중): 전기/전자 > 반도체장비 26% · 전기/전자 > 반도체 소자·회로 17% · 전기/전자 > 디스플레이 16% · 에너지/자원 > 신재생에너지 9%

최근 주요 과제 (2022–2024, 연차 정부연구비 순)

연도과제수행기관부처억
2022금속 산화막 채널을 이용한 차세대 트랜지스터 제조용 고성능 ALD 장비 개발주성엔지니어링(주)산업통상자원부33.5
2024대면적 유리 기판에서 저온 박막증착용 무기발광 소재 및 장비 기술개발주성엔지니어링(주)산업통상자원부18.0
2024Logic 1nm이하 Memory xnm급의 차세대 유전체 및 전극용 공정 장비 개발주성엔지니어링(주)산업통상자원부16.1
20228세대 IGZO계 산화물 원자층 증착 장비 및 고이동도 박막트랜지스터 기술 개발에이피시스템(주)산업통상자원부14.0
2023이상 감지 및 성능 향상을 위한 지능형 원자층 증착 공정장비 기술개발(주)서플러스글로벌산업통상자원부13.8
2024High vacuum conductance를 갖는 batch type ALD system 개발(주)유진테크산업통상자원부13.2
2022MTJ(Magnet Tunnel Junction) Capping Layer 제조용 Plasma Source를 이용한 저온공정 Silicon Nitride 증착 장비 개발(주)씨엔원산업통상자원부13.0
2024차세대 패터닝용 금속화합물계 소재 증착을 위한 플라즈마 ALD 장비 개발(주)아이작리서치산업통상자원부12.6

교수

교수연구분야논문2022년 이후
성영은무기 및 전기전자 소재20
김도희공정시스템10
현택환무기 및 전기전자 소재10

연결되는 NTIS 분류

유기화학 1 화학공정 1

논문 (최신순)

연도논문학부 저자피인용
2021Systematic Approach to Designing a Highly Efficient Core–Shell Electrocatalyst for N2O Reduction 화학공정 › 촉매/반응기술
ACS Catalysis
현택환31
2019Vertically aligned TiO2/ZnO nanotube arrays prepared by atomic layer deposition for photovoltaic applications
Korean Journal of Chemical Engineering
성영은14
20152‐Butanol Dehydration over Highly Dispersed Molybdenum Oxide/ MCM ‐41 Catalysts 유기화학 › 유기합성방법론
Bulletin of the Korean Chemical Society
김도희2
2014Highly ordered and vertically oriented TiO2/Al2O3 nanotube electrodes for application in dye-sensitized solar cells
Nanotechnology
성영은42

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성영은

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